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光谷霸占芯片光刻胶要害技能

发表时间: 2024-12-10 10:18:41 作者: 江南电竞app测评答案-染色液

  10月15日,我国光谷诞生严重科学技能成果:武汉太紫微光电科技有限公司在全国首先霸占组成光刻胶所需的质料和配方,我国芯片制作要害原资料获得瓶颈性打破。该公司新式光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证,行将量产。

  太紫微企业成立于2024年5月,由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创建。团队主攻要害光刻胶底层研制技能,已在电子化学品范畴深耕20多年。

  该公司科研人员介绍,光刻胶是一种感光资料,用于芯片制作的光刻环节,作业原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制作时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上制作好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会产生曝光,通过一系列处理后,晶圆上就会得到所需的电路图。

  因为光刻胶是芯片制作的要害资料,国外企业对其质料和配方高度保密,目前我国所运用的光刻胶九成以上依靠进口。

  “这是我国初次霸占组成光刻胶所需质料和配方,对我国逐渐改变在集成电路范畴的受制现状具有严重意义。”太紫微公司负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表明,相较于全球同系列新产品,该新式光刻胶在光刻工艺中表现出的极限分辨率到达120纳米,且工艺宽容度更大、稳定性更高。(记者张真真、通讯员康鹏、王冰倩)

  我国光谷诞生严重科学技能成果:武汉太紫微光电科技有限公司在全国首先霸占组成光刻胶所需的质料和配方,我国芯片制作要害原资料获得瓶颈性打破。


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